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硅旋轉靶采用等離子噴涂或者燒結綁定工藝,可生產最大長度4000mm,厚度根據客戶要求定制。硅平面靶采用拉晶生長工藝,可生產最大長度600mm,最大寬度400mm,尺寸可根據客戶要求加工。
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